簡要描述：膠片用染料研磨均質(zhì)機NKD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
產(chǎn)品型號： NKD2000/4
所屬分類：納米均質(zhì)機
更新時間：2025-02-25
膠片用染料研磨均質(zhì)機，色漿研磨均質(zhì)機，漿料研磨均質(zhì)機,色漿研磨機，高剪切研磨均質(zhì)機此機器采用了二級處理結(jié)構(gòu),*級采用了高剪切研磨均質(zhì)機的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了水平。
電影膠片用染料研磨均質(zhì)機是CIK（上海）公司2013研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
膠片用染料研磨均質(zhì)機NKD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
研磨均質(zhì)機選型表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 | |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | ||
NKD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
NKD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
NKD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
NKD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
NKD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
NKD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | ||||||
色漿 CIK研磨均質(zhì)機有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
色漿研磨均質(zhì)機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
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