高剪切乳化機(jī)_高剪切乳化機(jī)廠家

簡(jiǎn)要描述：高剪切乳化機(jī)_高剪切乳化機(jī)廠家的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，新浪輕工公司在CR2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出CRS2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

產(chǎn)品型號(hào)：

所屬分類(lèi)：納米乳化機(jī)

更新時(shí)間：2025-02-26

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高剪切乳化機(jī)_高剪切乳化機(jī)廠家

納米復(fù)合材料是由兩種或兩種以上的固相至少在一維以納米級(jí)大小(1~100nm) 復(fù)合而成的復(fù)合材料。這些固相可以是非晶質(zhì)、半晶質(zhì)、晶質(zhì)或兼而有之。也可以使有機(jī)物、無(wú)機(jī)物或二者兼有
　　復(fù)合材料由于其優(yōu)良的綜合性能，特別是其性能的可設(shè)計(jì)性被廣泛應(yīng)用于航空航天、國(guó)防、交通、 　高剪切乳化機(jī)_高剪切乳化機(jī)廠家

納米復(fù)合材料是由兩種或兩種以上的固相至少在一維以納米級(jí)大小(1~100nm) 復(fù)合而成的復(fù)合材料。這些固相可以是非晶質(zhì)、半晶質(zhì)、晶質(zhì)或兼而有之。也可以使有機(jī)物、無(wú)機(jī)物或二者兼有
　　復(fù)合材料由于其優(yōu)良的綜合性能，特別是其性能的可設(shè)計(jì)性被廣泛應(yīng)用于航空航天、國(guó)防、交通、體育等領(lǐng)域，納米復(fù)合材料則是其中吸引力的部分，近年來(lái)發(fā)展很快，世界發(fā)達(dá)國(guó)家新材料發(fā)展的戰(zhàn)略都把納米復(fù)合材料的發(fā)展放到重要的位置。該研究方向主要包括納米聚合物基復(fù)合材料、納米碳管功能復(fù)合材料、納米鎢銅復(fù)合材料。
　　在納米聚合物基復(fù)合材料方面，主要采用同向雙螺桿擠出方法分散納米粉體，分散水平達(dá)到納米級(jí)，得到了性能符合設(shè)計(jì)要求的納米復(fù)合材料。我們制備的納米蒙脫土/PA6復(fù)合材料中，納米蒙脫土的層間距為1.96nm，處于國(guó)內(nèi)同類(lèi)材料的水平（中國(guó)科學(xué)院為1.5~1.7nm），蒙脫土復(fù)合到尼龍基體中后*剝離成為厚度1~1.5nm的納米微粒，其復(fù)合材料的耐溫性能、阻隔性能、抗吸水性能均非常優(yōu)秀，此材料已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化；正在開(kāi)發(fā)的納米TiO2/聚丙烯復(fù)合材料具有優(yōu)良的抗菌效果，納米TiO2粉體在聚丙烯中分散達(dá)到60nm以下，此項(xiàng)技術(shù)正在申報(bào)發(fā)明。由于納米聚合物復(fù)合材料的成型工藝不同于普通的聚合物，本方向還積極開(kāi)展新的成型方法研究，以促進(jìn)納米復(fù)合材料產(chǎn)業(yè)化的進(jìn)行。

價(jià)格電議，咨詢(xún)請(qǐng)： 段，公司有樣機(jī)可供客戶(hù)實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀指導(dǎo)！

 的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，新浪輕工公司在CR2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出CRS2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.   

線(xiàn)速度是衡量設(shè)備效果的一個(gè)重要的指標(biāo)

線(xiàn)速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。 
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
                             g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m) 
由上可知，剪切速率取決于以下因素： 
–轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率
–在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=3.14 SD（轉(zhuǎn)子直徑）S 轉(zhuǎn)速 RPM/60  

• 傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時(shí)的分散過(guò)程，CRS2000設(shè)備1小時(shí)就可以完成，更加高效、節(jié)能。

• 多層多向剪切分散。同類(lèi)設(shè)備定、轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一，多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)只是單純的重復(fù)性加工，相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象。CRS2000系列定、轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切的概念，裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向的剪切分散，杜絕短路現(xiàn)象，超細(xì)分散更加*。
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